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化學(xué)刻蝕法刻硅納米線 已有2人參與
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大家好： 我在用化學(xué)刻蝕法做硅納米線，原來(lái)用的刻蝕液為0.035mol/L的AgNO3溶液與20wt%的HF酸的混合液，常溫刻蝕3h，以前的硅片電阻率<0.1Ω•cm,濃硝酸去銀后可以刻出硅納米線，現(xiàn)在買的新硅片其他的參數(shù)都一樣就是電阻率變小了為0.001-0.005，在放在濃硝酸里去銀時(shí)把硅片炸出來(lái)了，稀釋后再去銀的結(jié)果就是硅片上沒有線。請(qǐng)大家指導(dǎo)指導(dǎo)！不勝感激！ |
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yswyx 
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2樓2015-01-29 17:02:45
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3樓2015-03-04 09:17:10
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4樓2017-03-24 14:33:54
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5樓2017-04-11 16:41:30
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