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化學(xué)刻蝕法刻硅納米線 已有2人參與
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大家好: 我在用化學(xué)刻蝕法做硅納米線,原來用的刻蝕液為0.035mol/L的AgNO3溶液與20wt%的HF酸的混合液,常溫刻蝕3h,以前的硅片電阻率<0.1Ω•cm,濃硝酸去銀后可以刻出硅納米線,現(xiàn)在買的新硅片其他的參數(shù)都一樣就是電阻率變小了為0.001-0.005,在放在濃硝酸里去銀時(shí)把硅片炸出來了,稀釋后再去銀的結(jié)果就是硅片上沒有線。請(qǐng)大家指導(dǎo)指導(dǎo)!不勝感激! |
銅蟲 (初入文壇)
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新蟲 (正式寫手)
銅蟲 (初入文壇)
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然11 2026-03-19 | 4/200 |
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[論文投稿]
申請(qǐng)回稿延期一個(gè)月,編輯同意了。但系統(tǒng)上的時(shí)間沒變,給編輯又寫郵件了,沒回復(fù)
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wangf9518 2026-03-17 | 4/200 |
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