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磁控濺射制備Sr2TiO4薄膜 已有1人參與
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問題描素：我探究了濺射工藝條件（氬氧比、壓強(qiáng)、濺射功率、襯底溫度、退火溫度和偏壓等）對(duì)制備Sr2TiO4薄膜的影響，發(fā)現(xiàn)利用Sr2TiO4陶瓷靶濺射鍍膜后，膜的成分元素化學(xué)計(jì)量比不符合Sr:Ti:O=2:1:4,鍶的比例小于2，且制備的薄膜高溫（700-900℃）煅燒后生成SrTiO3薄膜。 可能的原因：氬離子轟擊化合物陶瓷靶材時(shí)，由于不同元素原子質(zhì)量不一樣，其中Sr原子質(zhì)量較大，因此無法按原有的化學(xué)計(jì)量比濺射下來，且Sr的濺射率最低。 請(qǐng)教問題：如何利用磁控濺射法，通過轟擊Sr2TiO4靶材來制備符合化學(xué)計(jì)量比的Sr2TiO4薄膜？ |
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2樓2015-07-20 14:56:07
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很多工藝參數(shù)我都試過了，像氬氧比、氣壓、襯底溫度、退火溫度等等。我在加入一部分氧氣的時(shí)候，測(cè)試成分發(fā)現(xiàn)，鍶的比例更小了，膜厚隨著氧氣的增多而減少。經(jīng)過大量的實(shí)驗(yàn)摸索，我發(fā)現(xiàn)EDS測(cè)試結(jié)果的規(guī)律是，鍶的含量和膜厚有極大的關(guān)系，當(dāng)我的膜厚達(dá)到1個(gè)微米以上時(shí)，元素化學(xué)計(jì)量比竟然符合了Sr:Ti:O=2:1:4，但是退火之后XRD衍射峰顯示為SrTiO3,退火之后的鍶比例為1.5左右。所以我的問題有1、薄膜成分怎么會(huì)和膜厚有關(guān)系呢？2、在馬弗爐中退火之后，鍶怎么會(huì)減少呢？ |
3樓2015-07-28 20:40:18
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