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luciferosa木蟲之王 (文壇精英)
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[求助]
CeO2材料氧化預(yù)處理后H2-TPR低溫區(qū)基線抬高的現(xiàn)象 已有4人參與
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大家好！本人最近在研究CeO2材料H2-TPR時(shí)候發(fā)現(xiàn)一個(gè)問題。如下圖所示，當(dāng)CeO2經(jīng)過O2預(yù)處理后（300℃，10% O2/He處理10分鐘），低溫區(qū)（<250℃）出現(xiàn)了明顯的基線抬高現(xiàn)象，而同樣的材料經(jīng)過還原預(yù)處理（300℃，5% H2/Ar處理10分鐘）后就沒有類似現(xiàn)象。如果先還原，再氧化，還是會(huì)出現(xiàn)同樣的基線抬高現(xiàn)象。想請(qǐng)教各位大俠這個(gè)低溫區(qū)的基線抬高該怎么解釋呀？謝謝啦！ 另：我用的儀器是麥克的 Autochem II 2920，每次氧化（或者還原）處理后都會(huì)降至-20℃通入He吹掃10分鐘 演示文稿1_副本.jpg |
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luciferosa
木蟲之王 (文壇精英)
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2樓2015-12-15 12:01:08
luciferosa
木蟲之王 (文壇精英)
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3樓2015-12-15 12:40:04
luciferosa
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4樓2015-12-15 13:41:33
luciferosa
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5樓2015-12-15 16:07:19
arthas_007
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6樓2015-12-15 17:20:16
cholocate5
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【答案】應(yīng)助回帖
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感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
luciferosa: 金幣+10, ★有幫助, 謝謝 2015-12-16 07:11:16
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吹掃的時(shí)間有點(diǎn)短，還有就是會(huì)不會(huì)是表面吸附氧脫附了，氧化鈰是儲(chǔ)氧材料，溫度低的時(shí)候表面氧并沒有被氫還原或是部分被氫還原而更多出現(xiàn)了脫附？ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
7樓2015-12-15 20:44:31
luciferosa
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謝謝，但我發(fā)現(xiàn)不預(yù)氧化的話就不會(huì)出現(xiàn)這個(gè)現(xiàn)象，比如預(yù)還原后處理時(shí)間和條件都與預(yù)氧化一致，卻不會(huì)有基線抬高。而且以上結(jié)果重復(fù)性非常好，做了3遍曲線都完全重合，不太像是誤差所致，這是何解？ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
8樓2015-12-16 07:09:51
luciferosa
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嗯，有可能。不過表面吸附氧脫附溫度一般也在200℃以上了，這個(gè)更像是基線本身的抬高。不知道TPR里面導(dǎo)致基線抬高能有幾種原因？ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
9樓2015-12-16 07:13:14
zyhou
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10樓2015-12-16 07:44:46
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