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luciferosa木蟲之王 (文壇精英)
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CeO2材料氧化預處理后H2-TPR低溫區(qū)基線抬高的現(xiàn)象 已有4人參與
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大家好！本人最近在研究CeO2材料H2-TPR時候發(fā)現(xiàn)一個問題。如下圖所示，當CeO2經(jīng)過O2預處理后（300℃，10% O2/He處理10分鐘），低溫區(qū)（<250℃）出現(xiàn)了明顯的基線抬高現(xiàn)象，而同樣的材料經(jīng)過還原預處理（300℃，5% H2/Ar處理10分鐘）后就沒有類似現(xiàn)象。如果先還原，再氧化，還是會出現(xiàn)同樣的基線抬高現(xiàn)象。想請教各位大俠這個低溫區(qū)的基線抬高該怎么解釋呀？謝謝啦！ 另：我用的儀器是麥克的 Autochem II 2920，每次氧化（或者還原）處理后都會降至-20℃通入He吹掃10分鐘 演示文稿1_副本.jpg |
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luciferosa
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2樓2015-12-15 12:01:08
luciferosa
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5樓2015-12-15 16:07:19
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luciferosa: 金幣+10, ★有幫助, 謝謝 2015-12-16 07:11:16
感謝參與，應助指數(shù) +1
luciferosa: 金幣+10, ★有幫助, 謝謝 2015-12-16 07:11:16
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吹掃的時間有點短，還有就是會不會是表面吸附氧脫附了，氧化鈰是儲氧材料，溫度低的時候表面氧并沒有被氫還原或是部分被氫還原而更多出現(xiàn)了脫附？ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
7樓2015-12-15 20:44:31
luciferosa
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謝謝，但我發(fā)現(xiàn)不預氧化的話就不會出現(xiàn)這個現(xiàn)象，比如預還原后處理時間和條件都與預氧化一致，卻不會有基線抬高。而且以上結(jié)果重復性非常好，做了3遍曲線都完全重合，不太像是誤差所致，這是何解？ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
8樓2015-12-16 07:09:51
luciferosa
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9樓2015-12-16 07:13:14
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10樓2015-12-16 07:44:46
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