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lwb870525木蟲 (著名寫手)
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[求助]
射頻磁控濺射中的靶材自偏壓是怎么形成的?(假如放電氣體為Ar) 已有4人參與
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要沉積薄膜的基底放在陽極,靶材放在陰極。當(dāng)射頻電源在兩電極間加上電場后: 1、射頻電源在正周期提供的電場,使得Ar+向靶材(陰極)加速運(yùn)動(dòng)并撞擊靶材,與此同時(shí)電子向基底(方向)運(yùn)動(dòng),但是由于靶材背面的磁場的洛倫茲力作用,其被限制在了靶材表面附近,提高了等離子體的密度; 2、射頻電場在負(fù)周期時(shí),陽極和陰極兩電極的電場方向發(fā)生變化,Ar+會(huì)減速向靶材運(yùn)動(dòng),而電子則會(huì)加速向靶材(陰極)運(yùn)動(dòng)。 以上關(guān)于射頻電場周期性變化時(shí),Ar+和電子在兩電極間的運(yùn)動(dòng)描述,是不是對的? 靶材的自偏壓又是如何形成的? 請大神解釋下,謝謝! |
薄膜制備與特性 | 薄膜材料和器件制備 |

鐵桿木蟲 (著名寫手)
專家顧問 (知名作家)
學(xué)習(xí)使人進(jìn)步
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木蟲 (正式寫手)
木蟲 (著名寫手)

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