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[求助]
求助:關(guān)于有關(guān)物質(zhì)的專屬性研究
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在藥劑質(zhì)量研究-有關(guān)物質(zhì)的專屬性研究中,用酸、堿、氧化、光照、熱處理以后HPLC檢測(cè),其結(jié)果現(xiàn)有如下的迷惑: 1.比如是針對(duì)某個(gè)雜質(zhì)進(jìn)行的,按定量的研究,其結(jié)果是反映強(qiáng)制性條件對(duì)該雜質(zhì)的破壞情況呢,還是說對(duì)主峰的破壞產(chǎn)生的新雜質(zhì)峰能夠與針對(duì)雜質(zhì)很好分離? 2.在結(jié)果表述的時(shí)候,是只要表明該雜質(zhì)能夠被很好檢出,與其他新雜質(zhì)很好分離;還是表述成破壞以后所有雜質(zhì)峰都能夠很好的分離開?要求所有的雜質(zhì)都能夠分離度很好么? |
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主要破壞產(chǎn)生的新雜質(zhì)峰,雜質(zhì)間、雜質(zhì)與主峰間、雜質(zhì)與輔料峰間、主峰與輔料峰間都能有較好的分離,說明了選擇的色譜條件較好。另外,因?yàn)槲锪鲜鞘睾愕,如果破壞產(chǎn)生新雜質(zhì),則主峰肯定是降解的,一般破壞試驗(yàn)的最佳條件是使用主峰降解了10%至15%為佳,如果破壞后主峰降解,沒有產(chǎn)生約相同量的雜質(zhì),那說明你的色譜條件有問題。 做破壞試驗(yàn)時(shí),最好是做原料、制劑、混合輔料都分別按相同的破壞條件去破壞,再檢測(cè),經(jīng)過比較,可以看出檢測(cè)條件是否合理。 |

至尊木蟲 (文壇精英)
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破壞還要檢測(cè)主峰的純度(用二極管陣列檢測(cè)器)就是看主峰是不是就是你要的那個(gè)物質(zhì)出的峰,是不是有其它雜質(zhì)在主峰這個(gè)位置也有響應(yīng)。 破壞的強(qiáng)度不要太劇烈雜質(zhì)降解出10%~20%就可以了。 針對(duì)問題: 1.主峰的破壞產(chǎn)生的雜質(zhì)峰能夠與主峰和針對(duì)雜質(zhì)很好分離。 2.針對(duì)雜質(zhì)能夠被很好檢出,破壞以后所有雜質(zhì)峰都能夠很好的分離開。 其實(shí)結(jié)果表述時(shí)說的合理全面就行了。 還有做制劑破壞的時(shí)候,要把相應(yīng)的空白輔料也同條件下做破壞,看看是否有雜質(zhì)出來,對(duì)主峰及雜質(zhì)檢測(cè)是不是有干擾。 |

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