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dadado87新蟲 (初入文壇)
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[求助]
關(guān)于用morphology模塊進(jìn)行晶體形態(tài)模擬的問題
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| 最近用morphology中的Growth Morphology方法對某晶胞進(jìn)行晶體形態(tài)的模擬，結(jié)果與文獻(xiàn)上的數(shù)據(jù)有很大出入，但幾篇文獻(xiàn)上的數(shù)據(jù)是一致的。使用MS4.4以及MS5.0兩個版本模擬過，而且在不同的電腦上運行過，結(jié)果都是一樣的。檢查過晶胞參數(shù)，準(zhǔn)確無誤，對比建立起的晶胞與文獻(xiàn)中的圖片，從外觀上看應(yīng)該是一樣的，實在不知道問題出在哪里，焦頭爛額，煩請各問老師指教。 |
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2樓2011-06-27 15:03:05
dadado87
新蟲 (初入文壇)
- 應(yīng)助: 0 (幼兒園)
- 金幣: 6.5
- 帖子: 2
- 在線: 6.5小時
- 蟲號: 1056607
- 注冊: 2010-07-13
- 專業(yè): 高分子材料結(jié)構(gòu)與性能
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我就是不知道為什么模擬結(jié)果有偏差才來請教的…… 用過Growyh Morphology方法模擬的就會知道，結(jié)果會有一個表格文件，里面會列出所有穩(wěn)定的面，以及相應(yīng)面的dhkl、Eatt和占晶體總表面積的百分比，我得出6個穩(wěn)定的面，文獻(xiàn)也給出6個穩(wěn)定的面，其中只有5個相同，但各個面的dhkl、Eatt和占晶體總表面積的百分比則完全不同，大小順序排列也不一致，模擬出的晶體形狀自然相去甚遠(yuǎn)。 morphology模擬前我用discovery進(jìn)行晶胞優(yōu)化，compass力場，電荷是Forcefield assigned，Electrostatic和vdW的加和方法都是Ewald。用morphology模擬的時候其他的條件都一樣，只是vdW的加和方法換成了Atom Based，因為它的下拉選項沒有Ewald，只有Atom Based和Group Based，這點我也不太明白。 |
3樓2011-06-28 09:34:49
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