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測定金屬催化劑分散度的溫度
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各位蟲友： 請教一問題，在考察不同焙燒溫度對催化劑表面分散度的影響時（如350℃和450℃焙燒），我采用H2-O2滴定法（HOT）測定，請問在用H2滴定時，設(shè)定溫度為多少合適？ 比如我焙燒催化劑時為350℃，那么在H2滴定時，溫度比350℃高呢，還是低？（我們知道，高溫度會使金屬聚集，如果我在H2滴定時采用450℃，催化劑金屬可能積聚，表征的必然不是350℃下催化劑的表面分散度，如H2滴定設(shè)定溫度低于350℃，又怕不反應(yīng)，我是假設(shè)），那么，H2滴定溫度對催化劑分散度測定造成什么影響？不同滴定溫度會有不同測定結(jié)果么？ 呵呵，啰嗦了，謝謝關(guān)注！ PS:H2-O2滴定法測分散度，是否可以再催化劑前驅(qū)體在空氣中焙燒后，直接在H2下滴定，如果不能，O2滴定時，是否可以用空氣代替O2進行滴定？ [ Last edited by henianzhi on 2011-12-26 at 20:36 ] |
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henianzhi(金幣+1):謝謝參與
henianzhi(金幣+1):謝謝參與
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關(guān)于你問的這個問題，我覺得可能是這樣的情況： 1、金屬催化劑前驅(qū)體焙燒（考察不同溫度） 2、還原（一般是H2高溫還原），條件相同。 3、抽真空后H2吸附測定（H2的吸附溫度相同，此吸附溫度應(yīng)該由不同吸附溫度吸附H2后的TPD量來決定，一般情況下，許多金屬如Ni，Ru等都會是室溫吸附；而有些金屬如Co，是需要100-150度下吸附，此時H2的吸附為活化吸附；基本沒有見過高于200度以上的，另外溫度越高吸附量會越少！） 4、抽真空后，高溫下O2吸附。 所以你的問題是只需要考察第一步變化，后面234的條件是確定的（參考文獻或自己做實驗確定），不能變了，否則全是變量，沒有辦法說明問題了！ 因此，一般好像不會直接焙燒后測定H2吸附，因為金屬可能是氧化態(tài)，另外會直接用純氧吸附，方便計算。 [ Last edited by chenliang1982 on 2011-12-27 at 07:18 ] |
» 本帖已獲得的紅花（最新10朵）
henianzhi2樓2011-12-27 07:15:19
3樓2011-12-27 13:10:36
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5樓2011-12-27 14:51:26
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