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[求助]
磁控濺射&離子濺射
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各位前輩好! 我想在我的碳基體上濺射一層鉑,本來想用磁控濺射,但是學校的設備要排隊,偶然間發(fā)現學校的掃描電鏡室的噴金設備也可以噴鉑,他們有鉑靶。查了一下那個設備是小型離子濺射儀。不知道用這種離子濺射上去的鉑和磁控濺射的鉑有什么不同嗎?比如和基體的結合力啥的。 如果沒啥區(qū)別的話我以后就用離子濺射也可以嗎? 由于是新蟲,只有兩個半金幣,都懸賞了哈~不要嫌棄呀 |
真空鍍膜類技術資料 |
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