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[求助]
磁控濺射&離子濺射
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各位前輩好！ 我想在我的碳基體上濺射一層鉑，本來想用磁控濺射，但是學(xué)校的設(shè)備要排隊，偶然間發(fā)現(xiàn)學(xué)校的掃描電鏡室的噴金設(shè)備也可以噴鉑，他們有鉑靶。查了一下那個設(shè)備是小型離子濺射儀。不知道用這種離子濺射上去的鉑和磁控濺射的鉑有什么不同嗎？比如和基體的結(jié)合力啥的。 如果沒啥區(qū)別的話我以后就用離子濺射也可以嗎？ 由于是新蟲，只有兩個半金幣，都懸賞了哈～不要嫌棄呀 |
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