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vasp 中 NELECT的設(shè)置
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通常在研究帶電缺陷時，似乎我們都是通過設(shè)置NELECT來控制不同的價態(tài)。例如，如果要對氧空位的形成能Ef計算，我們都是通過NELECT的不同設(shè)置來模擬不同的"價態(tài)"，然后比較形成能的大小來畫出費米能級---形成能的曲線。 現(xiàn)在，我想看看“外加”的一個電子在氧空位附近的局域情況（此時的體系是帶電的），以前我都是通過NELECT=電子數(shù)+1來模擬的。但是，最近我想了一下似乎有不妥。因為 A.我的本意是想引入一個外加電子（這時缺陷處的價態(tài)我是不知道的，有可能存在多種價態(tài)，但我也不關(guān)心，我關(guān)心的只是這個外加電子的局域情況） B.但實際情況卻是，通過設(shè)置NELECT=電子數(shù)+1，缺陷處的價態(tài)固定為-1了（不知道我的理解對不對），這就與A中多種價態(tài)相矛盾 越想越矛盾，NELECT到底是干什么的，是我理解錯了嗎？到底該如何設(shè)置這個外加的電子，是不是VASP對于情況A無能為力 歡迎大家積極發(fā)表看法 |
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