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[求助]
請教制備薄膜時不同的退火方式
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磁控濺射制備薄膜，需要退火，想用以下三種方法： 1.濺射完后，800度通氧氣一小時，再降到室溫 2.濺射完后，從800度降到一個固定的溫度（如300度），設(shè)定一個固定的時間（比如一小時），此過程通氧氣，然后再降到室溫 3.濺射完后，取出薄膜放入管式爐中通氧氣800度下一小時，再降到室溫 請教下第二種方法算退火嗎？如果算的話這三種方式分別是什么？原位退火or？？？有什么區(qū)別和影響？ |
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