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risktaker111金蟲 (正式寫手)
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[求助]
磁控濺射 鎳薄膜 直流 交流 電源
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| 如題，本人最近用磁控濺射在硅襯底上鍍Ni薄膜，但是用直流電源時，功率無法調(diào)節(jié)，基本上加上電源，功率就恒定了，電流表數(shù)值很小，電壓表數(shù)值7Kv左右固定，怎么調(diào)，功率都不變？什么原因！ 其次，用交流電源時，功率可以調(diào)節(jié)了，但是淀積速率太慢，2h，150w功率，2Pa，才30nm左右？誰做過類似的實驗，請指教！ |
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遼寧號
木蟲 (著名寫手)
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risktaker111: 金幣+5, 博學EPI+1, ★★★很有幫助 2013-03-12 20:11:18
risktaker111: 金幣+5, 博學EPI+1, ★★★很有幫助 2013-03-12 20:11:18
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鐵，鈷，鎳是導磁材料，裝上鎳靶后靶面磁場減弱，不容易起輝，或起輝后濺射速度變慢。 可以采用薄靶材和強磁場的磁路布局方式解決問題。 https://bbs.chinesevacuum.com/dispbbs.asp?boardid=34&id=34487 |
2樓2013-03-12 11:17:38
fengzi楓紫
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3樓2013-04-24 08:53:37
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