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循環(huán)伏安法的峰電位
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請問各位大俠,循環(huán)伏安法在多少伏出氧化峰和還原峰,是和采用的電解質溶液有關還是跟修飾電極的物質有關?我看文獻覺得好像出峰的位置不僅僅是修飾電極的物質決定的。除了文獻,還有其他方法能查到出峰的位置嗎(比如在0.5M硫酸中氧化石墨烯修飾電極的氧化峰和還原峰分別在哪里出)?因為文獻里沒有我想要的。 此外我還想知道表征的時候(就是裸電極、A修飾電極、A+B修飾電極的出峰差別)一定要用緩沖溶液吧?我看到有的文獻有用鐵氰化鉀的,覺得很奇怪,因為之前有人跟我說鐵氰化鉀不能用于表征,因為它不算是緩沖溶液。那究竟能不能用鐵氰化鉀呢? 求各位幫忙! |
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