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[求助]
磁控濺射叉指電極制作方案中遇到的問題 已有6人參與
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大家好！我現(xiàn)在介紹下實驗內(nèi)容： 制作一金叉指電極（磁控濺射），其尺寸為10*10mm，其叉指條紋寬度為10um，間距為200um，其叉指條紋數(shù)量20個。 1.定制相應(yīng)尺寸的光刻掩膜板； 2.基片清洗，經(jīng)拋光、丙酮、無水乙醇和去離子水處理后烘干； 3.旋涂光刻膠，采用KW-4A型勻膠機(jī)旋涂； 4.掩膜曝光，將掩膜板放入光刻機(jī)光刻，并顯影； 5.濺射，將上述基底放入濺射機(jī)濺射金屬電極； 6.超聲剝離，浸入丙酮溶液，并用超聲剝離得到叉指電極。 以上制作步驟是胡永明先生專利提供的方法。 我現(xiàn)在遇到的問題是： 1.光刻掩膜板定制的公司及價位（除南京清微電子外）； 2.以上各步驟所需要的制作時間和操作注意事項； 3.光刻技術(shù)相關(guān)設(shè)備型號、實驗材料以及優(yōu)缺點（如光刻機(jī)型號、光刻膠型號）。 [ Last edited by congqin312 on 2013-7-11 at 14:46 ] |
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5樓2013-07-10 10:03:46
東風(fēng)燕
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2樓2013-07-08 18:16:14
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3樓2013-07-08 22:27:48
4樓2013-07-09 09:55:13
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