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讀書湖朱哥新蟲 (初入文壇)
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[求助]
磁控濺射叉指電極制作方案中遇到的問(wèn)題 已有6人參與
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大家好！我現(xiàn)在介紹下實(shí)驗(yàn)內(nèi)容： 制作一金叉指電極（磁控濺射），其尺寸為10*10mm，其叉指條紋寬度為10um，間距為200um，其叉指條紋數(shù)量20個(gè)。 1.定制相應(yīng)尺寸的光刻掩膜板； 2.基片清洗，經(jīng)拋光、丙酮、無(wú)水乙醇和去離子水處理后烘干； 3.旋涂光刻膠，采用KW-4A型勻膠機(jī)旋涂； 4.掩膜曝光，將掩膜板放入光刻機(jī)光刻，并顯影； 5.濺射，將上述基底放入濺射機(jī)濺射金屬電極； 6.超聲剝離，浸入丙酮溶液，并用超聲剝離得到叉指電極。 以上制作步驟是胡永明先生專利提供的方法。 我現(xiàn)在遇到的問(wèn)題是： 1.光刻掩膜板定制的公司及價(jià)位（除南京清微電子外）； 2.以上各步驟所需要的制作時(shí)間和操作注意事項(xiàng)； 3.光刻技術(shù)相關(guān)設(shè)備型號(hào)、實(shí)驗(yàn)材料以及優(yōu)缺點(diǎn)（如光刻機(jī)型號(hào)、光刻膠型號(hào)）。 [ Last edited by congqin312 on 2013-7-11 at 14:46 ] |
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yswyx 
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小木蟲: 金幣+0.5, 給個(gè)紅包，謝謝回帖
124685887: 專家考核, 謝謝指導(dǎo) 2013-07-11 11:46:22
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124685887: 專家考核, 謝謝指導(dǎo) 2013-07-11 11:46:22
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這破流程還專利？ 你現(xiàn)在遇到的問(wèn)題是需要個(gè)人把整個(gè)叉指電極lift off的正確方法教一遍。不過(guò)，這個(gè)教一遍，比替你把電極做出來(lái)費(fèi)勁多了。更何況你找的這個(gè)所謂的專利，可以說(shuō)是狀況百出，陷阱無(wú)數(shù)。 搭著討論的幌子請(qǐng)教問(wèn)題，還分享，還進(jìn)步………… 想獲得幫助就老老實(shí)實(shí)請(qǐng)教 |
3樓2013-07-08 22:27:48
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| 做個(gè)4寸的版的話的確要花1000元左右，我們一般在中科院微電子所制版，說(shuō)實(shí)話，價(jià)格有些小貴。制版一般很快，只要你把版圖發(fā)過(guò)去，一周左右就會(huì)做完。麻煩的是后面的工藝階段，這個(gè)過(guò)程不是一次能成功的，特別是光刻過(guò)程，但以你的結(jié)構(gòu)來(lái)說(shuō)，叉指數(shù)量少，間距大，這個(gè)應(yīng)該不是太困難，就是叉指太狹小，光刻過(guò)程中會(huì)遇到些困難。所以，光刻前，勻膠的均勻性必須控制好，合理選擇勻膠轉(zhuǎn)速，勻膠后還要進(jìn)行烘膠。如果對(duì)叉指精度要求嚴(yán)格的話，光刻中光刻功率，曝光時(shí)間都需進(jìn)行合理設(shè)置。還有，光刻完成后，進(jìn)行濺射金前，建議先濺射一層很薄的鉻，再去濺射金，以提高金玉基地的粘附性。進(jìn)行剝離時(shí)，不建議使用超聲剝離，這樣會(huì)使叉指脫落。我們實(shí)驗(yàn)室用的是SUUS的光刻機(jī)，光刻膠我一般用4620正膠，顯影液AZ300和AZ400都可以，但AZ400用時(shí)需要稀釋一下。不建議去納米所去做，因?yàn)橘M(fèi)用很貴。隨便找個(gè)有光進(jìn)口刻機(jī)的大學(xué)里都能完成這個(gè)實(shí)驗(yàn)，而且價(jià)格可以協(xié)商。祝好 |
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ledlau
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8樓2013-07-10 19:17:49
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