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磁控濺射叉指電極制作方案中遇到的問題 已有6人參與
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大家好!我現(xiàn)在介紹下實驗內(nèi)容: 制作一金叉指電極(磁控濺射),其尺寸為10*10mm,其叉指條紋寬度為10um,間距為200um,其叉指條紋數(shù)量20個。 1.定制相應(yīng)尺寸的光刻掩膜板; 2.基片清洗,經(jīng)拋光、丙酮、無水乙醇和去離子水處理后烘干; 3.旋涂光刻膠,采用KW-4A型勻膠機旋涂; 4.掩膜曝光,將掩膜板放入光刻機光刻,并顯影; 5.濺射,將上述基底放入濺射機濺射金屬電極; 6.超聲剝離,浸入丙酮溶液,并用超聲剝離得到叉指電極。 以上制作步驟是胡永明先生專利提供的方法。 我現(xiàn)在遇到的問題是: 1.光刻掩膜板定制的公司及價位(除南京清微電子外); 2.以上各步驟所需要的制作時間和操作注意事項; 3.光刻技術(shù)相關(guān)設(shè)備型號、實驗材料以及優(yōu)缺點(如光刻機型號、光刻膠型號)。 [ Last edited by congqin312 on 2013-7-11 at 14:46 ] |
木蟲 (著名寫手)

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