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讀書湖朱哥新蟲 (初入文壇)
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[求助]
磁控濺射叉指電極制作方案中遇到的問題 已有6人參與
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大家好!我現(xiàn)在介紹下實(shí)驗(yàn)內(nèi)容: 制作一金叉指電極(磁控濺射),其尺寸為10*10mm,其叉指條紋寬度為10um,間距為200um,其叉指條紋數(shù)量20個(gè)。 1.定制相應(yīng)尺寸的光刻掩膜板; 2.基片清洗,經(jīng)拋光、丙酮、無水乙醇和去離子水處理后烘干; 3.旋涂光刻膠,采用KW-4A型勻膠機(jī)旋涂; 4.掩膜曝光,將掩膜板放入光刻機(jī)光刻,并顯影; 5.濺射,將上述基底放入濺射機(jī)濺射金屬電極; 6.超聲剝離,浸入丙酮溶液,并用超聲剝離得到叉指電極。 以上制作步驟是胡永明先生專利提供的方法。 我現(xiàn)在遇到的問題是: 1.光刻掩膜板定制的公司及價(jià)位(除南京清微電子外); 2.以上各步驟所需要的制作時(shí)間和操作注意事項(xiàng); 3.光刻技術(shù)相關(guān)設(shè)備型號(hào)、實(shí)驗(yàn)材料以及優(yōu)缺點(diǎn)(如光刻機(jī)型號(hào)、光刻膠型號(hào))。 [ Last edited by congqin312 on 2013-7-11 at 14:46 ] |
木蟲 (著名寫手)
小蟲
| 做個(gè)4寸的版的話的確要花1000元左右,我們一般在中科院微電子所制版,說實(shí)話,價(jià)格有些小貴。制版一般很快,只要你把版圖發(fā)過去,一周左右就會(huì)做完。麻煩的是后面的工藝階段,這個(gè)過程不是一次能成功的,特別是光刻過程,但以你的結(jié)構(gòu)來說,叉指數(shù)量少,間距大,這個(gè)應(yīng)該不是太困難,就是叉指太狹小,光刻過程中會(huì)遇到些困難。所以,光刻前,勻膠的均勻性必須控制好,合理選擇勻膠轉(zhuǎn)速,勻膠后還要進(jìn)行烘膠。如果對(duì)叉指精度要求嚴(yán)格的話,光刻中光刻功率,曝光時(shí)間都需進(jìn)行合理設(shè)置。還有,光刻完成后,進(jìn)行濺射金前,建議先濺射一層很薄的鉻,再去濺射金,以提高金玉基地的粘附性。進(jìn)行剝離時(shí),不建議使用超聲剝離,這樣會(huì)使叉指脫落。我們實(shí)驗(yàn)室用的是SUUS的光刻機(jī),光刻膠我一般用4620正膠,顯影液AZ300和AZ400都可以,但AZ400用時(shí)需要稀釋一下。不建議去納米所去做,因?yàn)橘M(fèi)用很貴。隨便找個(gè)有光進(jìn)口刻機(jī)的大學(xué)里都能完成這個(gè)實(shí)驗(yàn),而且價(jià)格可以協(xié)商。祝好 |

銅蟲 (小有名氣)

專家顧問 (著名寫手)
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