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小珠珠alone新蟲 (初入文壇)
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磁控濺射氧化鋁和氧化鋅 已有2人參與
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我剛剛接觸磁控濺射，做了氧化物TFT器件，，氧化鋁做絕緣層，氧化鋅為有源層，制備完之后，發(fā)現(xiàn)器件很容易被擊穿，沒有一點(diǎn)場(chǎng)效應(yīng)，電流還有隨著電壓增大下降的趨勢(shì)，猜想可能是氧化鋁太薄，但是加大膜厚后，依然如此，而且感覺有源層濺射的也不均勻，濺射設(shè)備是三個(gè)靶，頭碰頭，基片可以旋轉(zhuǎn)，沒有充氧，也沒有使用退火，我想問一下有沒有遇到過這種情況的？應(yīng)該怎么解決？謝謝！ [ Last edited by sddtc888 on 2014-3-17 at 10:54 ] |
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