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小珠珠alone新蟲 (初入文壇)
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有沒(méi)有濺射過(guò)IGZO靶材的 TFT方向 已有2人參與
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| 我最近在長(zhǎng)有一層氮化硅的硅片上濺射IGZO,然后再蒸鍍一層鋁電極,因?yàn)榈韫杵浅善,所以想通過(guò)這種方式,測(cè)試一下什么樣的條件下,濺射的IGZO薄膜最好,才開始在不摻氧的情況下,功率30,40W,濺射時(shí)間半個(gè)小時(shí)的時(shí)候,有一丁點(diǎn)的效果,但是開啟電流大,且關(guān)不斷,最后趨于平行的直線,其他濺射時(shí)間長(zhǎng)的都直接是直線。然后就想著摻氧,Ar:O2為3:1,10:1,時(shí),都開不了,電流很小,就想著少摻些,然后查文獻(xiàn),設(shè)功率為50W,真空度為0.5帕,Ar:O2為30:1,發(fā)現(xiàn)濺射時(shí)間40分鐘的時(shí)候有些效果,而且比沒(méi)有摻氧的效果要好一下,但是也有點(diǎn)關(guān)不斷。就想著再多濺射一會(huì),然后又濺射了兩個(gè)片子,分別為60min,和80min,測(cè)試效果竟然都是直線,沒(méi)有一丁點(diǎn)場(chǎng)效應(yīng),為什么會(huì)這樣?到底是什么原因,一直長(zhǎng)不好呢?濺射氧化鋅的時(shí)候,有場(chǎng)效應(yīng)。濺射IGZO,怎么才能濺射好呢? |
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銀蟲 (小有名氣)


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