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raaishenghuo鐵桿木蟲 (小有名氣)
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[交流]
關(guān)于去除硅片氧化層 已有2人參與
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| 3：1的H2SO4/H2O2 叫做piranha溶液，強(qiáng)氧化性。 硅片經(jīng)此溶液處理后反而會(huì)形成氧化層，厚度可以用ellipsomertry測(cè)量，大概在0.8nm。含HF的試劑可以去除氧化層，但是同時(shí)也腐蝕硅片，增加表面粗糙度。建議用還原性氣體plasma處理硅片去除氧化層，例如氫氣。 |
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