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ponieer金蟲 (著名寫手)
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[求助]
激光干涉光刻應(yīng)該選取什么樣的光刻膠 已有2人參與
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光源是325nm的He-Cd激光器,功率是50mw。 希望涂膠厚度范圍可以控制在100nm-1000nm之間。所刻的光柵周期在300納米到1微米之間。顯影的深度最好能比較方便控制。 可能會用到lift-off工藝來制作金屬光柵。 大家給推薦下啊 |
金蟲 (著名寫手)
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金蟲 (著名寫手)
木蟲 (正式寫手)
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[考研] 332求調(diào)劑 +4 | @MZB382400 2026-03-28 | 4/200 |
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[考研] 一志愿中南大學(xué)化學(xué)0703總分337求調(diào)劑 +5 | niko- 2026-03-27 | 5/250 |
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[考研] 化學(xué)調(diào)劑 +4 | 愛吃番茄的旭 2026-03-24 | 5/250 |
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[考研] 一志愿南師大0703化學(xué) 275求調(diào)劑 +4 | Ripcord上岸 2026-03-27 | 4/200 |
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