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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » ICP刻蝕光刻負膠SU-8
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ICP刻蝕光刻負膠SU-8 已有1人參與
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請問有沒有同學用ICP刻蝕常見光刻膠su8的結(jié)構層？我用壓印的方法做的結(jié)構，然后用ICP氧等離子體刻蝕殘余的su8膠層。 但是發(fā)現(xiàn)刻蝕到一定程度后發(fā)現(xiàn)，殘余層刻蝕不動了，結(jié)構別的地方刻蝕正常。請教大神如何解決，萬分感謝。 （殘余層距離結(jié)構頂端大約13微米左右） 附圖刻蝕前后截面SEM照片。 刻蝕后刻不動.jpg 刻蝕前 .jpg |
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yswyx 
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