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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » 如何加工25nm寬的納米溝道
| 查看: 2334 | 回復: 19 | ||||
audrey380104銀蟲 (小有名氣)
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[求助]
如何加工25nm寬的納米溝道 已有4人參與
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大家好，我現(xiàn)在想在SiO2或者Si上加工規(guī)則整齊的豎直向下的納米溝道，如下圖所示： 方法可以是電子束曝光（EBL）或者聚焦離子束(FIB)加工，最好是EBL。由于之前沒有親自操作過EBL，所以對于加工只有25nm左右寬度的溝道不太了解�？次墨I上說這之中會遇到諸如鄰近效應等的影響，知道了可以通過調(diào)節(jié)曝光和刻蝕過程中的各項參數(shù)來盡量修正臨近效應。請大家給我點意見和建議，關于怎么較好的制備出這樣的納米溝道。謝謝   nanotrench.png |
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audrey380104: 金幣+50, ★★★很有幫助 2015-12-26 06:08:16
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audrey380104: 金幣+50, ★★★很有幫助 2015-12-26 06:08:16
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2：1就已經(jīng)很難了，10：1不可能。側(cè)刻會把你的結(jié)構(gòu)吃光的。 RIE肯定不行，ICP或者DRIE也很難。 你這個設計高寬比是硬傷。而且垂直度也是沒辦法做到的一個陷阱。 至于光刻，別想了，只有EBL適合。麻煩的是，找一款合適的光刻膠會很麻煩，因為你這個要干刻，要能抗得住刻蝕，最好是HSQ，但這個膠用起來相當麻煩。你要自己做的話，光摸條件和準備材料就會瘋的，最好找成熟的實驗室做。 |
11樓2015-12-25 13:41:23
caojingpie
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8樓2015-12-24 12:44:40
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19樓2015-12-28 12:31:31
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2樓2015-12-24 09:41:14
gzj99154037
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5樓2015-12-24 11:32:07
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6樓2015-12-24 11:58:14
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