以銅膜為基底旋涂的光刻膠，在顯影后的圖案上熱蒸發(fā)鍍金，然后再用洗脫液洗去光刻膠，顯影出的圖案部分的金也會被洗掉是什么原因呢？

如題，我的實驗條件是氨水0.4M，TEOS0.2M，H2O3M，75攝氏度反應(yīng)兩小時后沒有明顯變化，裝進(jìn)樣品管后沒多久就變成果凍一樣的透明凝膠了，這是為什么�。�？？求指導(dǎo)

請問光刻工藝中超薄膠技術(shù)是什么？哪位大佬給介紹一下，謝謝

各位蟲友們，本人研究生二年級，在做有關(guān)銀納米簇的實驗，近期發(fā)現(xiàn)同一時間相同濃度的合成原料去合成兩管納米簇，然后拿去測熒光，熒光強(qiáng)度總是差很多，有了解這方面知識的大佬們，可否給些建議。急求！!!

請問大家目前在微納米尺度，光學(xué)模擬有哪些方法呢？之前一直用LAMMPS分子動力學(xué)模擬，老板希望我們和別的方向做些交叉，不知道別的軟件好不好上手呢？

有償哦，最好是你們實驗室就有[lasteditedby煥煥的尾巴?on2021-3-15at21:04][Lasteditedby煥煥的尾巴?on2021-3-16at07:32]

我想找自組裝相關(guān)的文獻(xiàn)資料，但一點頭緒都沒有，諸位有沒有什么建議

提供規(guī)則形狀氣凝膠樣品。接受定制，可開票。

打擾問一哈各位蟲友除了同步輻射等高級方法還有啥方法可以測定材料表面缺陷呀

制備金種子生長液時，CTAB、抗壞血酸、硝酸銀、鹽酸的作用是什么？？？請各位大佬賜教！！

各位大神，我做的納米零價鐵XRD做不出來特征峰，用的是液相還原法，NaBH4還原FeCl3，還原時通氮氣了，還原后用乙醇洗滌，室溫下真空干燥，一直做不出來明顯的特征峰，請問有什么需要特別注意的操作嗎？有沒有做出峰的大神告知一下具體步驟

有沒有做納米摩擦發(fā)電機(jī)的，自己的做的電壓和電流特太小了有沒有啥渠道買一個學(xué)習(xí)一下致力于鞋墊之類的

氯氣或氯化硼等離子體可以刻蝕氮化硅或氧化硅介質(zhì)層嗎？

請問各位大佬，原子面密度怎么算呀？是把晶胞每個面投射出來，數(shù)出原子個數(shù)除以面積嘛？求指導(dǎo)，拜托了，比較急

15.4nm金顆粒核(AuNPs)，14kDa聚苯乙烯聚合物刷和二氨基吡啶-胸腺嘧啶（DAP-Thy）氫鍵對連接NCT

在硅上做PT電極的圖形，濺射+liftoff。膠是5350，大概1-2um，Pt濺射厚度50nm，用丙酮liftoff，但是一洗就掉。求問是什么原因？考慮做粘附層；不知道圖形小有沒有關(guān)系？（大小為100um*100um）順便想問下liftoff的手法，可以晃動...

如果被氧化會產(chǎn)生什么物質(zhì)，用什么檢測呢？如果被氧化的話需要怎么抗氧化呢？謝謝各位大佬!

請教一下大家，兩個固化好的PDMS,一個厚度是1.2mm左右,另外一個是固化在硅片上的PDMS,大概是300μm左右，用什么辦法或者膠水可以把他們兩個粘在一起，然后把硅片去掉，，300μm的PDMS可以很好的附著在1.2mm的PDMS上面請大家指教，謝謝。

在標(biāo)題問題基礎(chǔ)上。我在氧化石墨烯表面沉積上了納米粒子，xrd顯示層間距大幅增大。文獻(xiàn)解釋這可以表面納米粒子插層到了氧化石墨烯之間。但是納米粒子粒徑遠(yuǎn)大于計算得到的改性后氧化石墨烯的層間距

請問采用溶劑熱合成的納米顆粒怎么洗啊?我采用乙醇和水洗的，然后怎么洗都洗不干凈，測XRD有氟化鈉晶相。然后我采用環(huán)己烷溶解，直接提取環(huán)己烷上清液，可是這樣洗的話，環(huán)己烷中沉淀下來的雜質(zhì)發(fā)綠光，而上清液發(fā)紅光。所以我現(xiàn)在很迷糊，請問到底該怎樣洗才能去掉雜質(zhì)，以及...

各位老師、前輩，本人最近在用管式反應(yīng)器制備一些納米銀，硝酸銀做銀前體，檸檬酸鈉做還原劑，管材是聚四氟乙烯，但是在做的過程當(dāng)中發(fā)現(xiàn)出口處的產(chǎn)物濃度前后不一致，開始流出來的產(chǎn)物顏色比較深，到后面流出來的沒有顏色了，測DLS、UV-vis差別也很大，想問問會是什么樣...

最近合成四氧化三鐵納米粒子，原來采用200度下羥基氧化鐵被油胺還原。然后用丙酮與己烷清洗。發(fā)現(xiàn)要么反應(yīng)后溶液變紅棕色要么清洗烘干時變色（量還特別少）。最近改用PEG1000與硫酸亞鐵，硫代硫酸鈉與氫氧化鈉在150度下反應(yīng)，生成大量黑色固體與少量白色顆粒與黃色固...