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lwb870525木蟲 (著名寫手)
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[求助]
射頻磁控濺射中的靶材自偏壓是怎么形成的？（假如放電氣體為Ar） 已有4人參與
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要沉積薄膜的基底放在陽極，靶材放在陰極。當射頻電源在兩電極間加上電場后： 1、射頻電源在正周期提供的電場，使得Ar+向靶材（陰極）加速運動并撞擊靶材，與此同時電子向基底（方向）運動，但是由于靶材背面的磁場的洛倫茲力作用，其被限制在了靶材表面附近，提高了等離子體的密度； 2、射頻電場在負周期時，陽極和陰極兩電極的電場方向發(fā)生變化，Ar+會減速向靶材運動，而電子則會加速向靶材（陰極）運動。 以上關于射頻電場周期性變化時，Ar+和電子在兩電極間的運動描述，是不是對的？ 靶材的自偏壓又是如何形成的？ 請大神解釋下，謝謝！ |
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zhangdi2015
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