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[求助]
直流磁控濺射鍍膜總是被氧化
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各位大俠！本人做磁控濺射鍍膜已經(jīng)四五個(gè)月時(shí)間，一直堅(jiān)持不懈努力著，但是每次鍍出來的鈦膜都是黃色的，用XRD檢測(cè)發(fā)現(xiàn)是一氧化鈦，現(xiàn)在離畢業(yè)時(shí)間不遠(yuǎn)了，但是自己一點(diǎn)成果都沒有，論文都無從談起，想請(qǐng)大家?guī)兔�！不甚感激！另PS我試驗(yàn)中的參數(shù) 基底：單晶硅（100）（純度99.9%） 背景真空度：6-8E-5pa Ar流量：20sccm 工作壓強(qiáng)：0.5pa 濺射功率：100、150、200、250w 我的基底在實(shí)驗(yàn)之前分別丙酮，無水乙醇，去離子水分別超聲波清洗20min，最后用吹風(fēng)機(jī)吹干！ 我現(xiàn)在真是不知道自己哪出了問題，研究了很長時(shí)間了，希望有經(jīng)驗(yàn)的大俠給我點(diǎn)建議，我都在崩潰的邊緣了，在這么下去畢業(yè)無止境了都。跪求！ |
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【答案】應(yīng)助回帖
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aishan(金幣+1): 感謝發(fā)資源帖 2011-10-13 10:50:16
aishan(金幣+1): 感謝發(fā)資源帖 2011-10-13 10:50:16
| 這個(gè)應(yīng)該和氬氣純度關(guān)系沒那么大，個(gè)人覺得可能兩方面：制作方面，氬氣通入時(shí)間通入保持時(shí)間長一點(diǎn)再起輝，工作壓強(qiáng)可以提高一點(diǎn)到1.5pa，濺射時(shí)間短一點(diǎn)，一個(gè)小時(shí)太長了，20分鐘就差不多了！ 測(cè)試方面，XRD的狹縫換小一點(diǎn)，時(shí)間短一點(diǎn)，有時(shí)候X射線也可能氧化樣品，可以增加其他測(cè)試手段比如拉曼光譜，電鏡能譜等！另外，你的膜厚大約多少？ |
4樓2011-10-11 09:28:34
2樓2011-10-09 14:21:12
3樓2011-10-09 15:04:30
5樓2011-10-11 09:51:06
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