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請教制備薄膜時不同的退火方式
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磁控濺射制備薄膜,需要退火,想用以下三種方法: 1.濺射完后,800度通氧氣一小時,再降到室溫 2.濺射完后,從800度降到一個固定的溫度(如300度),設(shè)定一個固定的時間(比如一小時),此過程通氧氣,然后再降到室溫 3.濺射完后,取出薄膜放入管式爐中通氧氣800度下一小時,再降到室溫 請教下第二種方法算退火嗎?如果算的話這三種方式分別是什么?原位退火or???有什么區(qū)別和影響? |
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金蟲 (著名寫手)
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