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dearsodium鐵桿木蟲 (小有名氣)
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[求助]
射頻磁控濺射后為什么靶材表面有黑膜和彩色光圈 已有1人參與
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磁控濺射靶材資料大全 | 磁性材料 | PVD鍍膜類技術(shù)資料 |
木蟲 (小有名氣)
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把設(shè)備打開,抽真空,但是不濺射。一個人用裝有酒精的針管對著接口的縫隙注射少量酒精,另一個人觀察真空表,如果真空度明顯下降,表明這個地方漏氣?梢园阉械慕涌诙紮z查一遍。當(dāng)然,如果有專業(yè)的真空檢漏設(shè)備會更好! |
鐵桿木蟲 (小有名氣)
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感謝之前的各位朋友的回答,針對大家說的漏氣問題我再補(bǔ)充幾點,因為最近的實驗都是采用的之前的成熟工藝條件在做,分子泵啟動后本底真空大概一個半小時到兩個小時就能下到9.8*10-4以下,雖然比以前慢,但是慢得并不多,包括之后流量計控進(jìn)氣,高閥控出氣的位置,以及濺射時氬氣氣壓的控制,都和以前沒有區(qū)別,總的說來,抽真空和控氣壓過程沒有明顯感覺到有大量漏氣的情況,另外氬氣已經(jīng)試用了兩瓶了,依然是如題現(xiàn)象,想進(jìn)一步問一下,如果是漏氣的話,是否是漏一點點就會有這么明顯的影響。 此外,因為磁控濺射放靶的位置,因為長期使用外加保養(yǎng)不善,稍微有一點鼓起,靶放在上面稍微有一點不平感,請問這是否也會造成影響呢,謝謝大家啦。 |
木蟲 (正式寫手)
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濺射出的原子最終沉降的目標(biāo)區(qū)(基底)。離子濺射通常是高能粒子在爐內(nèi)亂飛,所以不僅靶材,連沉積區(qū)的底板(基底)表面原子也很有可能被打出來飛入靶材表面,比如用硅片做基底在上面沉積涂層,工藝不好的話,硅可能也會飛到靶材中。真空度不夠的可能性應(yīng)該更大,你可以切塊靶材,用SEM的能譜檢測下表面黑的和彩色的包含什么元素,有助于判斷 |
鐵蟲 (正式寫手)
銀蟲 (小有名氣)
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鐵桿木蟲 (小有名氣)
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