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磁控反應(yīng)濺射Mg/Zn靶材輝光不穩(wěn)定問題。 已有1人參與
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| 磁控濺射實驗中，采用的是氬氣和氧氣混合進行濺射金屬靶材Zn,Mg,用來生長ZnMgO合金薄膜。發(fā)現(xiàn)在單個金屬靶材濺射時候，發(fā)現(xiàn)輝光穩(wěn)定，但是一旦共濺射之后，兩個金屬靶材輝光都變得不穩(wěn)定。在5.0Pa(電阻檔下真空計讀數(shù)）。以前在這個壓強下是可以正常進行的。當(dāng)我減小壓強，氬氣和氧氣流量不變情況，共濺射輝光就變穩(wěn)定。這寫可能得原因是什么？ |
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 磁控濺射靶材資料大全 | PVD鍍膜類技術(shù)資料 |
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yanglei839
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