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磁控反應(yīng)濺射Mg/Zn靶材輝光不穩(wěn)定問(wèn)題。 已有1人參與
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| 磁控濺射實(shí)驗(yàn)中，采用的是氬氣和氧氣混合進(jìn)行濺射金屬靶材Zn,Mg,用來(lái)生長(zhǎng)ZnMgO合金薄膜。發(fā)現(xiàn)在單個(gè)金屬靶材濺射時(shí)候，發(fā)現(xiàn)輝光穩(wěn)定，但是一旦共濺射之后，兩個(gè)金屬靶材輝光都變得不穩(wěn)定。在5.0Pa(電阻檔下真空計(jì)讀數(shù)）。以前在這個(gè)壓強(qiáng)下是可以正常進(jìn)行的。當(dāng)我減小壓強(qiáng)，氬氣和氧氣流量不變情況，共濺射輝光就變穩(wěn)定。這寫(xiě)可能得原因是什么？ |
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 磁控濺射靶材資料大全 | PVD鍍膜類技術(shù)資料 |
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yanglei839
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