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ponieer金蟲 (著名寫手)
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[求助]
激光干涉光刻應(yīng)該選取什么樣的光刻膠 已有2人參與
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光源是325nm的He-Cd激光器，功率是50mw。 希望涂膠厚度范圍可以控制在100nm-1000nm之間。所刻的光柵周期在300納米到1微米之間。顯影的深度最好能比較方便控制。 可能會用到lift-off工藝來制作金屬光柵。 大家給推薦下啊 |
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2樓2014-09-19 12:11:46
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3樓2014-09-19 12:36:11
ponieer
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7樓2014-09-23 12:15:45
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8樓2015-06-16 10:08:30
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