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[求助]
紫外光刻厚膠，用于掩蔽
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工藝需要4微米左右的厚膠就好了，圖形是3-4微米間隔。我光刻的成了碗型。使用膠i7010正膠（好像是AZ的） 有什么好方法可以使側(cè)壁陡直？包括前烘，曝光，顯影，后烘等等，甚至浸泡二甲苯。。。 謝謝各位大神啦 SEM照片 |
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2樓2012-12-01 21:33:27
3樓2012-12-03 12:54:59
yswyx 
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【答案】應(yīng)助回帖
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真空漲落: 金幣+10, 謝謝，每次都是您幫我。 2012-12-05 07:32:43
真空漲落: 金幣+10, 謝謝，每次都是您幫我。 2012-12-05 07:32:43
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為什么不用hard mask來(lái)加一層掩蔽，這樣不就可以用比較薄的膠來(lái)做工藝了啊。比如你長(zhǎng)一層金屬或者是SiO，然后再用高分辨率的光刻膠，比如我們的i1000，然后吧SiO窗口打開，然后再做注入。打開窗口你可以用RIE，相對(duì)比較陡直。這樣的話就不用扣光刻工藝了，高分辨率膠得到的垂直結(jié)果肯定比厚膠要好很多啊。 i7010是稻化學(xué)的，以前是shipley。 |
4樓2012-12-04 14:44:19
quanten
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5樓2012-12-04 23:22:10
6樓2012-12-05 07:34:51
yswyx
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7樓2012-12-05 14:36:59
8樓2013-05-10 15:33:17
9樓2013-05-10 15:46:52
xuanyaliudon
新蟲 (初入文壇)
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10樓2013-05-14 10:08:06
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