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外延生長(zhǎng)薄膜質(zhì)量問題
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最近開始做了一些這方面的實(shí)驗(yàn)，發(fā)現(xiàn)選擇好晶格常數(shù)比較匹配的基地，還是比較容易長(zhǎng)出外延的薄膜，但雖然XRD測(cè)出是很好的外延，在AFM下，表面并沒有想象中的那么平。就是感覺應(yīng)該長(zhǎng)成像買的基地那樣的臺(tái)階式的膜，但AFM看起來也是有起伏的，像些顆粒狀，雖然起伏不大，在幾個(gè)nm內(nèi)。 請(qǐng)問這是什么原因�。� 應(yīng)該如何控制的出很高質(zhì)量的平整的膜�。� 還有，如果長(zhǎng)在不導(dǎo)電的基地上，想測(cè)一些光電學(xué)性質(zhì)，有化學(xué)工作站測(cè)， 會(huì)不會(huì)因?yàn)閷?dǎo)電性差而有問題��？ |
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sin81: 金幣+10, ★有幫助 2013-06-23 17:33:42
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2樓2013-06-23 16:43:35
feixiangmars
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3樓2013-06-30 21:07:08
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