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外延生長薄膜質(zhì)量問題
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最近開始做了一些這方面的實驗，發(fā)現(xiàn)選擇好晶格常數(shù)比較匹配的基地，還是比較容易長出外延的薄膜，但雖然XRD測出是很好的外延，在AFM下，表面并沒有想象中的那么平。就是感覺應(yīng)該長成像買的基地那樣的臺階式的膜，但AFM看起來也是有起伏的，像些顆粒狀，雖然起伏不大，在幾個nm內(nèi)。 請問這是什么原因��？ 應(yīng)該如何控制的出很高質(zhì)量的平整的膜�。� 還有，如果長在不導(dǎo)電的基地上，想測一些光電學(xué)性質(zhì)，有化學(xué)工作站測， 會不會因為導(dǎo)電性差而有問題��？ |
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sin81: 金幣+10, ★有幫助 2013-06-23 17:33:42
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2樓2013-06-23 16:43:35
feixiangmars
銅蟲 (初入文壇)
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3樓2013-06-30 21:07:08
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4樓2013-06-30 21:08:10
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