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外延生長薄膜質量問題
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最近開始做了一些這方面的實驗,發(fā)現(xiàn)選擇好晶格常數(shù)比較匹配的基地,還是比較容易長出外延的薄膜,但雖然XRD測出是很好的外延,在AFM下,表面并沒有想象中的那么平。就是感覺應該長成像買的基地那樣的臺階式的膜,但AFM看起來也是有起伏的,像些顆粒狀,雖然起伏不大,在幾個nm內。 請問這是什么原因? 應該如何控制的出很高質量的平整的膜? 還有,如果長在不導電的基地上,想測一些光電學性質,有化學工作站測, 會不會因為導電性差而有問題? |
銅蟲 (初入文壇)

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銅蟲 (初入文壇)

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