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羅軍王銀蟲 (初入文壇)
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[求助]
二氧化硅RIE刻蝕 已有2人參與
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| 我們有一臺(tái)中科院的ME-3A型磁增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，現(xiàn)在刻蝕硅片已經(jīng)對(duì)達(dá)到最優(yōu)化，一分鐘能達(dá)到600nm左右，但是對(duì)于石英只能幾十納米，所以跟大家交流一下刻蝕參數(shù)。我們目前使用的參數(shù)是：流量15，壓強(qiáng)0.5Pa，功率100W，速率25nm/min |
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quanten
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4樓2014-06-26 15:56:26
羅軍王
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3樓2014-06-26 15:35:54
羅軍王
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5樓2014-07-08 16:33:06
zytsh
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6樓2014-09-22 11:18:31
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