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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » 二氧化硅RIE刻蝕
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[求助]
二氧化硅RIE刻蝕 已有2人參與
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| 我們有一臺中科院的ME-3A型磁增強反應離子刻蝕機，現在刻蝕硅片已經對達到最優(yōu)化，一分鐘能達到600nm左右，但是對于石英只能幾十納米，所以跟大家交流一下刻蝕參數。我們目前使用的參數是：流量15，壓強0.5Pa，功率100W，速率25nm/min |
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2樓2014-06-24 10:17:40
3樓2014-06-26 15:35:54
quanten
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4樓2014-06-26 15:56:26
5樓2014-07-08 16:33:06
6樓2014-09-22 11:18:31
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7樓2014-09-22 23:46:42
8樓2014-09-23 09:09:40
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9樓2014-09-25 00:06:33
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10樓2014-10-16 22:53:59
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