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羅軍王銀蟲 (初入文壇)
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[求助]
二氧化硅RIE刻蝕 已有2人參與
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| 我們有一臺中科院的ME-3A型磁增強反應(yīng)離子刻蝕機，現(xiàn)在刻蝕硅片已經(jīng)對達到最優(yōu)化，一分鐘能達到600nm左右，但是對于石英只能幾十納米，所以跟大家交流一下刻蝕參數(shù)。我們目前使用的參數(shù)是：流量15，壓強0.5Pa，功率100W，速率25nm/min |
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