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gkbwin新蟲 (初入文壇)
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[求助]
求教磁控濺射鍍鋁膜發(fā)黑的問題 已有4人參與
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在雙面氧化長有1.4um的二氧化硅的p100硅片上面用磁控濺射鍍上1.2um的鋁，鍍完后發(fā)現(xiàn)有很大部分區(qū)域顏色發(fā)黑，沒有鋁金屬光澤。用萬用表測試是否短路發(fā)現(xiàn)顏色較淺的區(qū)域能導(dǎo)通，顏色最暗的小部分區(qū)域無法導(dǎo)通，顯示有很小的電阻。然后按照相同的參數(shù)，又鍍了一片，發(fā)現(xiàn)依然有區(qū)域顏色稍微暗，但是全部能短路導(dǎo)通。下圖一是先后鍍的兩個片子，下圖二是直接在沒有二氧化硅的硅片上鍍鋁后的圖。（鍍鋁是為了做離子刻蝕的抗刻蝕層） 現(xiàn)在就是不清楚這些發(fā)暗的區(qū)域到底是怎么回事，難道是沒有鍍上鋁或者鍍的很少嗎？或者是鋁和二氧化硅反應(yīng)生成了硅和氧化鋁，從而失去了金屬光澤？ 然后呢，這些硅片全部都是用高溫膠帶粘住三個角給粘在腔室里的，所以我們能看到三個角上是沒有鋁的，然后開腔取片子時，我還特意測了一下高溫膠帶表面是否鍍上鋁了，發(fā)現(xiàn)高溫膠帶表面是短路導(dǎo)通的。這就說明高溫膠帶上面也鍍上鋁了啊。但是我們老板懷疑是鍍的鋁比較少，因為第一片背面做的是有結(jié)構(gòu)的，很重要，所以現(xiàn)在實驗就沒法做了，很著急發(fā)暗的區(qū)域到底是怎么了，請前輩賜教啊，感激不盡！ IMG_20140626_215404.jpg IMG_20140626_215501.jpg |
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