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huanyingmofa鐵蟲 (初入文壇)
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[求助]
磁控濺射過程中，Ar氣流速對鍍膜有什么影響？ 已有7人參與
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最近實驗，一直不知道Ar的流速到底應(yīng)該怎么控制，是應(yīng)該多還是應(yīng)該少？ Ar流速高，真空腔內(nèi)的Ar分子相對較多，在維持壓強(qiáng)不變的情況下，靶材的分子就會相對偏少，不利于膜的形成 Ar流速低，雖然靶材的分子較多，但對起輝和電離影響大 不知道這樣理解對不對？有沒有相關(guān)文獻(xiàn)討論流速問題 求解答 |
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 真空鍍膜類技術(shù)資料 |
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4樓2014-07-30 00:51:00
peterflyer 
木蟲之王 (文學(xué)泰斗)
peterflyer
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2樓2014-07-29 21:35:37
cord
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3樓2014-07-29 23:26:55
【答案】應(yīng)助回帖
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感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
huanyingmofa: 金幣+1, ★★★很有幫助 2014-07-31 16:16:29
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huanyingmofa: 金幣+1, ★★★很有幫助 2014-07-31 16:16:29
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這個是磁控濺射設(shè)備的，壓力控制有關(guān)。 對于研發(fā)型的設(shè)備而言，分為上游壓力控制 和 下游壓力控制 上游壓力控制：真空腔室壓力恒定在3mTorr, 泵抽的速度不變，真空計的信號，反饋給質(zhì)量流量計，控制氬氣流量。始終使真空腔室的壓力維持在3mTorr 上游壓力控制：真空腔室壓力恒定在3mTorr, 質(zhì)量流量計的氬氣流量不變，真空計的信號，反饋給真空泵的閥門，控制閥門的開關(guān)大小，始終使真空腔室的壓力維持在3mTorr。 磁控濺射的均勻性和穩(wěn)定性，就是真空腔室內(nèi)維持動態(tài)的氣氛平衡過程。 所以你改變氬氣流量， 應(yīng)該在這個前提下進(jìn)行，才能說明壓力的流量對鍍膜的影響。 |
5樓2014-07-30 17:28:53
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