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firstlaker金蟲 (正式寫手)
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[求助]
光刻和電子束刻蝕做金屬圖案 已有3人參與
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如題。我想在鐵膜上做一些圓柱形圖案，直徑為1um左右，厚度50 nm。用電子束刻蝕后再用磁控濺射機鍍膜，lift-off方法做出來的膜邊緣問題很大，請問有什么方法可以改善么？ 聽說可以先鍍上膜，再光刻，然后利用化學(xué)反應(yīng)腐蝕掉未被光刻膠覆蓋部分，這種方法可行么？做出來的pattern效果怎么樣？可以用哪種膠和哪種溶液呢？ 如果我用光刻的方法在鐵膜上做直徑20um左右厚度50nm的圖案，又應(yīng)該用哪種膠和哪種圖案呢？易于實現(xiàn)么？ |
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firstlaker
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3樓2014-09-26 13:00:28
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dgf2008: 屏蔽內(nèi)容, 過期內(nèi)容！ 2017-07-25 23:34:02
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2樓2014-09-23 19:31:20
exciting73 
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4樓2014-09-26 13:22:29
firstlaker
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5樓2014-09-26 13:50:00
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