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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 學術討論 » 紫外光刻的問題
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haosonghappy鐵桿木蟲 (著名寫手)
Dr.
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[交流]
紫外光刻的問題
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各位好， 本人是器件制備方面的菜鳥，初步學習用紫外光刻機想干凈硅片上做標記，利用掩膜版，使用正刻膠。我嘗試了很多種曝光時間和顯影時間，依然得不到很好的結果。如圖所示，曝光部分的光刻膠不能很好的去除，請教各位大神和童鞋，到底是哪里出了問題，應該怎樣改進實驗參數(shù)？ uv40-20s2.jpg uv60-20s2.jpg |
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阿Q~~
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3樓2015-03-12 08:10:57
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haosonghappy
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5樓2015-03-12 19:24:54
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