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huanyingmofa鐵蟲 (初入文壇)
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[求助]
磁控濺射過程中，Ar氣流速對(duì)鍍膜有什么影響？ 已有7人參與
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最近實(shí)驗(yàn)，一直不知道Ar的流速到底應(yīng)該怎么控制，是應(yīng)該多還是應(yīng)該少？ Ar流速高，真空腔內(nèi)的Ar分子相對(duì)較多，在維持壓強(qiáng)不變的情況下，靶材的分子就會(huì)相對(duì)偏少，不利于膜的形成 Ar流速低，雖然靶材的分子較多，但對(duì)起輝和電離影響大 不知道這樣理解對(duì)不對(duì)？有沒有相關(guān)文獻(xiàn)討論流速問題 求解答 |
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 真空鍍膜類技術(shù)資料 |
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cz.87101
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