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firstlaker金蟲 (正式寫手)
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[求助]
光刻和電子束刻蝕做金屬圖案 已有3人參與
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如題。我想在鐵膜上做一些圓柱形圖案，直徑為1um左右，厚度50 nm。用電子束刻蝕后再用磁控濺射機(jī)鍍膜，lift-off方法做出來(lái)的膜邊緣問(wèn)題很大，請(qǐng)問(wèn)有什么方法可以改善么？ 聽說(shuō)可以先鍍上膜，再光刻，然后利用化學(xué)反應(yīng)腐蝕掉未被光刻膠覆蓋部分，這種方法可行么？做出來(lái)的pattern效果怎么樣？可以用哪種膠和哪種溶液呢？ 如果我用光刻的方法在鐵膜上做直徑20um左右厚度50nm的圖案，又應(yīng)該用哪種膠和哪種圖案呢？易于實(shí)現(xiàn)么？ |
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supernatural: 金幣-2, 屏蔽內(nèi)容, 違規(guī)存檔, 帖子里不允許留下網(wǎng)站鏈接 2020-05-27 09:16:49
supernatural: 金幣-2, 屏蔽內(nèi)容, 違規(guī)存檔, 帖子里不允許留下網(wǎng)站鏈接 2020-05-27 09:16:49
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9樓2020-05-24 09:25:23
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
dgf2008: 屏蔽內(nèi)容, 過(guò)期內(nèi)容！ 2017-07-25 23:34:02
dgf2008: 屏蔽內(nèi)容, 過(guò)期內(nèi)容！ 2017-07-25 23:34:02
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2樓2014-09-23 19:31:20
firstlaker
金蟲 (正式寫手)
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- 專業(yè): 光學(xué)
3樓2014-09-26 13:00:28
exciting73 
金蟲 (著名寫手)
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4樓2014-09-26 13:22:29
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