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[求助]
磁控濺射主室的直流和射頻能自己控制嗎
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| 各位大俠們,你們好,小妹現(xiàn)在遇到大問題。我主要從事薄膜晶體管的研究,我剛買的靶材,是三個陶瓷靶需要同時濺射制備薄膜。由于陶瓷靶材不導電,需要用射頻,而不是直流。但是,磁控濺射主室中只有一個射頻,而有兩個直流,所以實驗進行不下去。在這想請問大俠們,沈科儀的磁控濺射主室的射頻,直流能否自行調節(jié),設置,比如都調節(jié)成射頻。如果能夠幫我解決此問題,將不甚感激。 |

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