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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 學術討論 » 直流磁控濺射中柱狀晶的抑制
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xaver2010金蟲 (小有名氣)
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直流磁控濺射中柱狀晶的抑制 已有1人參與
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| 前兩天直流磁控濺射中做出來的Co，在TEM下觀察晶粒尺寸達到10幾納米，也挺均勻，但是會出現(xiàn)柱狀晶的現(xiàn)象。具體情況是，我看文獻中有為了抑制柱狀晶生長而在濺射過程中鍍一段時間停一段時間，我在試驗中試著鍍2min中就停一段時間，然后接著鍍，可是Tem照片中還是有明顯的柱狀傾向啊。而在鍍了2min的薄膜中就沒有觀察到柱狀晶。。請問柱狀晶的生長模式是什么啊。如果想要足夠厚的薄膜而且沒有明顯的柱狀晶生長，該如何做呢？？多謝。。。有柱狀晶圖片一張 |
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2013-11-12 16:34:58, 10.8 M
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4樓2013-12-26 09:41:33
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xaver20102樓2013-12-05 09:39:07
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5樓2013-12-26 20:01:03
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