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xaver2010金蟲(chóng) (小有名氣)
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[求助]
直流磁控濺射中柱狀晶的抑制 已有1人參與
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| 前兩天直流磁控濺射中做出來(lái)的Co，在TEM下觀察晶粒尺寸達(dá)到10幾納米，也挺均勻，但是會(huì)出現(xiàn)柱狀晶的現(xiàn)象。具體情況是，我看文獻(xiàn)中有為了抑制柱狀晶生長(zhǎng)而在濺射過(guò)程中鍍一段時(shí)間停一段時(shí)間，我在試驗(yàn)中試著鍍2min中就停一段時(shí)間，然后接著鍍，可是Tem照片中還是有明顯的柱狀傾向啊。而在鍍了2min的薄膜中就沒(méi)有觀察到柱狀晶。。請(qǐng)問(wèn)柱狀晶的生長(zhǎng)模式是什么啊。如果想要足夠厚的薄膜而且沒(méi)有明顯的柱狀晶生長(zhǎng)，該如何做呢？？多謝。。。有柱狀晶圖片一張 |
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2013-11-12 16:34:58, 10.8 M
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xaver2010
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