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磁控濺射低真空計異常求助 已有1人參與
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大家好,我最近在做磁控濺射鍍膜。我們的鍍膜機是沈科儀的,最近在抽真空的時候遇到了一些異常。詳情如下: 我一般是機械泵抽真空到5pa(低真空計顯示)以下,開始抽高真空。分子泵開始工作后,低真空計示數(shù)立馬就下降了,到0.2pa左右,正常情況是穩(wěn)定在0.2pa不動的,但是最近抽高真空一段時間后低真空計示數(shù)就慢慢往上升了,差不多5個小時后低真空計顯示為0.3pa,不太明白這是為什么。 另外一個問題是在濺射過程中,我的低真空計最多只能顯示到0.5pa,這樣如果工作氣壓為0.4pa就做不了了。 最后一個問題是關(guān)于漏真空的,一般我晚上抽真空到8.4×10-4pa,第二天早上來,漏真空為7.1pa,請問這個漏氣速度很快嗎。 我剛剛接手這個設(shè)備,很多問題都沒搞明白 |
新蟲 (小有名氣)
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1)真空計的顯示是有一定范圍的,低真空計在0.5pa左右已經(jīng)算是極限位置,其本身的顯示誤差就比較大一些的,個人認為0.2pa變到0.3pa不能說明有其它相關(guān)的問題; 2)可以同時開啟高真空計,將兩個真空計對應(yīng)記錄作為參照確定實驗過程的工作壓力,另外如果真空度能夠進入10-4pa量級,其中你的工藝氣體的流量一定的情況下,應(yīng)該是比較穩(wěn)定的。不會相差0.1pa的情況呀,另外,如果確實相差這么多則根據(jù)你自己的實驗要求衡量是否可以繼續(xù)做實驗; 3)這樣的漏率相對差了一點,但是還是可以接收的。 |
金蟲 (小有名氣)
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1.電阻規(guī)零點漂移,調(diào)一下零點九可以了。我們一直不建議用電阻規(guī)來測量沉積氣壓,因為那個數(shù)據(jù)不具備任何的可靠性和可參考性。真正想獲得一個更可靠的參數(shù)數(shù)據(jù)的話,你可以加一個皮拉尼規(guī)。 2.如果你濺射時的工藝氣體沒有含氧的或者腐蝕性氣體的話,0.xPa的氣壓你完全可以用電離規(guī)來測量,在0.xPa范圍內(nèi),電阻規(guī)的精度完全不可靠,相差幾倍都是有可能的。 3.設(shè)備漏率還行,不是特別高,一般在5Pa以下都算正常。你的設(shè)備應(yīng)該不是漏,我覺得你應(yīng)該把真空度好好清潔一下了。 |
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